無電解プロセス(Ni/Pd/Au) 厚Pdタイプ

無電解プロセス(Ni/Pd/Au) 厚Pdタイプ

特徴

析出速度が極めて安定。

析出速度が極めて安定。

新型Pdめっき浴では、析出速度が低下せず、極めて安定!

MTO:析出消費分の補給によるPd金属の更新回数

優れたはんだ付け性とワイヤボンディング性。

相対析出速度

はんだ性

はんだボール
Sn-2Ag-Cu-Ni
ボール径
Φ0.4mm
パッド径
Φ0.35mm
フラックス
30% Rosin(R type)
装置
Dage-4000HS
シア速度
100mm/s
シア高さ
100μm
はんだ性

ワイヤボンディング性

ワイヤボンディング性
ワイヤボンディング性

主な用途

  • パッケージ用回路基板
  • LED用回路基板
  • プリント配線板